設備用途:
應用于間歇式生產工藝,硅碳負極CVD氣相沉炭工藝。
設備參數:
配置 | 參數(按需) | 配置 | 參數(按需) |
爐管材質: | 310S | 溫控精度: | ±2℃ |
設備直徑: | 0.3m-0.95m | 干燥氣氛: | 氮氣氣氛/甲烷/乙炔 |
爐管長度: | 0.8m-6m | 進料含水率: | / |
加熱方式: | 電加熱 | 轉速范圍: | 0.5-1.6rpm,時序控制 |
加熱功率: | 30KW-300KW(按需配置) | 時間控制: | 02-5h,根據需要設置 |
使用溫度: | ≤950℃ | 出料溫度: | 60℃-90℃ |
控溫區(qū)數: | 3-6個 | 進料方式: | 平臺進料/人工加料 |
控溫方式: | PID控溫 | 出料方式: | 爐體傾斜出料 |
控制系統: | PLC+觸摸屏 | 爐管轉速: | 變頻調速 |
遠程通訊: | DCS通訊/不帶通訊 | 密封技術: | 旋轉套密封 |
設備特點:
(1)節(jié)能:采用陶瓷纖維模塊,保溫性能好,蓄熱值低采用科學的物料和氣體布局系統,余熱綜合利用,采用等距輻射加熱,熱效率高,與傳統窯爐相比節(jié)能約30%。
(2)精確時間控制:99段程序控溫,支持多段程序。
(3)批次生產:靈活性好,便于調整工藝參數。
(4)根據實際氣氛要求實現可控氣氛下的物料煅燒,密封面小,密封性能最好。
(5)縮短生產周期:設備自帶風冷系統,個別型號設備可設開蓋結構,加速降溫過程,縮短生產周期。